芯片生产制造离不开光刻机，而在光刻机领域内，ASML 的技术最为先进，其研发制造的 DUV 光刻机、EUV 光刻机占领了中高端市场。

尤其是 EUV 光刻机，可以说是一机难求，因为其是目前唯一能够生产制造 7nm 以下芯片的设备。

数据显示，ASML 七成以上的 EUV 光刻机都出货给了台积电，剩下的则是卖给了三星、英特尔等企业。

中芯国际也曾全款订购一台 EUV 光刻机，但由于美的缘故，该光刻机至今都没有到货。

对于中芯国际而言，自然是希望 EUV 光刻机早点到来。

因为梁孟松都明确表示，5nm 芯片最艰难的八项工作已经展开，等到 EUV 光刻机到货后，5nm 等芯片就能够全面展开研发任务。

还有就是，中芯国际 7nm 芯片已经完成研发任务，采用 DUV 光刻机也能够生产制造 7nm 芯片，但成本高，EUV 光刻机是生产制造 7nm 等芯片的最佳设备。

据悉，ASML 是希望将 EUV 光刻机在所有技术都出售给中芯国际等国内厂商，因为 EUV 光刻机售价高，利润更高。

另外，ASML 也多次表态示好，甚至还将美国发出了警告，目的就是向国内厂商出售 EUV 光刻机等在内的技术。

但没有想到的是，ASML 做出两个动作，情况是这样的。

ASML 计划在今年年底搬入美新建的办公大楼。同时，ASML 还在美加速布局，全新一代 EUV 光刻机已经正式出货给英特尔，其是第一家拿到全新 EUV 光刻机的厂商。

可以说，ASML 做出两个动作，意味着先进的 EUV 光刻机出货中芯国际的结果清晰了。

首先，ASML 采用了部分美国技术，其受到美规则的约束，所以 ASML 的先进光刻机至今都不能自由出货。

要知道，ASML 曾明显表示，在美国生产制造的 DUV 光刻机等设备，出口到国内厂商是需要许可的，但在荷兰本土生产制造的 DUV 光刻机则不需要。

如今，ASML 将会今年年底启用在美的新办公大楼，这意味着 ASML 可能会受到更大的约束，别说 EUV 光刻机，DUV 光刻机或许都将受影响。

其次，ASML 的重心也转移了。

都知道，ASML 大部分的 EUV 光刻机都出售了台积电，但现在 ASML 却将全新一代 EUV 光刻机优先出售给了英特尔，这意味着 ASML 的重心已经转移了。

也就是说，ASML 将会在光刻机方面优先供应英特尔等美企业，向中芯国际等供应先进 EUV 光刻机的希望更小了。

一方面是因为 EUV 光刻机的产能本身就有限，否则其也不会在韩国建设 EUV 光刻机再制造工厂，另一方面是 ASML 等于做出了选择，想自由出货就更难了。

所以才说 EUV 光刻机出货中芯国际的结果清晰了。

没有光刻机，其实中芯国际也有办法。虽然 EUV 光刻机是生产制造 7nm 以下芯片的必要设备，但没有 EUV 光刻机，中芯国际也有办法生产 7nm 等芯片。

因为国产新一代光刻机即将下线，其下线后，中芯国际就能够组建国产 7nm 及以上芯片生产线。可以说，中芯国际能够采用国产设备量产 7nm 及以上制程的芯片，这比研发 5nm 芯片更重要。

要知道，国内芯片需求大部分都是 14nm 以上工艺，7nm 等芯片往往都是用在手机上，只要能够量产 7nm 及以上芯片，并提高产能，国内芯片几乎就能够实现自给自足了。

更何况，中芯国际还在研发先进的封装工艺，而先进的封装工艺可以弥补芯片制造上不足，通过 7nm 工艺和先进封装工艺，一样可以打造出来性能强大的芯片。